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      烧结炉

      真空箱式炉

      小型气氛真空箱式炉

      小型气氛真空箱式炉是本公司新开发的一种新型炉型，控温精度高≤0.1℃，温度均匀性好±2℃，温度可达2300℃。占地面积小…
      感应式碳化硅烧结炉

      感应式碳化硅烧结炉

      小型气氛真空箱式炉是本公司新开发的一种新型炉型，控温精度高≤0.1℃，温度均匀性好±2℃，温度可达2300℃。占地面积小…
      碳化硅/氮化硅真空高温烧结炉

      碳化硅/氮化硅真空高温烧结炉

      小型气氛真空箱式炉是本公司新开发的一种新型炉型，控温精度高≤0.1℃，温度均匀性好±2℃，温度可达2300℃。占地面积小…
      真空裂解炉

      真空裂解炉

      小型气氛真空箱式炉是本公司新开发的一种新型炉型，控温精度高≤0.1℃，温度均匀性好±2℃，温度可达2300℃。占地面积小…
      碳陶复合材料RMI烧结炉

      碳陶复合材料RMI烧结炉

      在碳陶制作过程中，RMI是将热场加热到2000℃以上，依靠毛细管力使前驱体或者碳原气氛、硅原气氛分子渗入多孔碳预制体中，…
      碳化硅反应烧结炉

      碳化硅反应烧结炉

      小型气氛真空箱式炉是本公司新开发的一种新型炉型，控温精度高≤0.1℃，温度均匀性好±2℃，温度可达2300℃。占地面积小…